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消声室是声学测量的基本配套设施。本文作者在宁波大学内建消声室实践基础上,对消声室的类型、规格和技术经济指标的确定;消声室的隔振、隔声处理;消声室的吸声处理等方面的问题进行了探讨。消声室的性能检测的一个重要内容是自由声场的鉴定,本文提出一种离散法鉴定自由声场,具有简单易行的优点。 相似文献
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为精确描述燃烧室进气过程中的流场动态特性,本文应用大涡模拟模型对燃烧室稳态进气过程进行三维瞬态数值模拟研究,着重考察了三种不同亚网格模型(SGS)的性能,这三种SGS模型是:代数Smagorinsky模型、动态Smagorinsky模型和单方程动态动能输运模型(LDKEM)。计算结果表明LEDKEM模型和动态Smagorinsky模型均能较好地反映流场的瞬变性和随机性,前者性能最佳;而代数Smagorinsky模型精度较差,且不能模拟流场的微结构。 相似文献
47.
The permanent magnets of the discharge chamber in a multi-cusp proton source are studied and designed. The three electrode extraction system is adopted and simulated. A method to extract different amounts of current while keeping the beam emittance unchanged is proposed. 相似文献
48.
In heterogeneous catalysis it is important to know the reactivity of C-H bond in the hydrocarbon molecules. Experiments have been performed to obtain information about the exchange reaction of adsorbed hydrogen with methane and ethylene. In order to reduce the probability of forming products which contain more than one tritium atom, hydrogen labelled with H3 with low activity has been used. 相似文献
49.
In the atomic absorption spectrometry with the long absorption tube using a hydrogen-air flame, only the total consumption type of the burners, e.g., Beckman1 or ring burners2, have been used for the input of a sample solution to the flame. The use of the indirect input method with nebulization chamber has never been attempted, though, by use of a commercially available apparatus with nebulization chamber, the large increase of the sensitivity has been easily obtained by heating the chamber and nebulizing air3–5. 相似文献
50.
Dina Carbone Olivier Plantevin Raul Gago Cristian Mocuta Oier Bikondoa Alejandro Alija Lucien Petit Hamid Djazuli Till‐Hartmut Metzger 《Journal of synchrotron radiation》2008,15(4):414-419
A compact portable vacuum‐compatible chamber designed for surface X‐ray scattering measurements on beamline ID01 of the European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, is described. The chamber is versatile and can be used for in situ investigation of various systems, such as surfaces, nanostructures, thin films etc., using a variety of X‐ray‐based techniques such as reflectivity, grazing‐incidence small‐angle scattering and diffraction. It has been conceived for the study of morphology and structure of semiconductor surfaces during ion beam erosion, but it is also used for the study of surface oxidation or thin film growth under ultra‐high‐vacuum conditions. Coherent X‐ray beam experiments are also possible. The chamber is described in detail, and examples of its use are given. 相似文献